Analoge Heizplatte SHP-200

mit PlatineMehrfach

Beschreibung

• Ermöglicht gleichzeitiges Erhitzen und mehrfache Rührvorgänge
• Jeder Rührplatz ist individuell regelbar
• Schnelles Aufheizen bis 450 °C
• Frontbedienelemente so positioniert, dass Berührungen der heißen Platte reduziert werden
• Massive Keramikoberfläche: korrosions- und chemikalienbeständig, leicht zu reinigen

Details
Diese analogen Mehrpositions-Rührheizplatten bieten mehr Flexibilität als Einplatzgeräte. Jeder Rührplatz ist separat einstellbar und kann mit 100 bis 1500 rpm betrieben werden. Der analoge Heizknopf regelt die Temperatur im Bereich von 100–450 °C und verfügt über zwei Schnellwahlpositionen (HI und LO). Separate Kontrollleuchten zeigen Rühr- und Heizbetrieb an. Die massiven Keramikoberfläche (30,5 x 30,5 cm / 12” x 12”) heizt schnell auf und verzieht sich nicht.

Verfügbare Konfigurationen (Übersicht)
Max. Rührvolumen pro Position (Liter) | Anzahl Rührpositionen | Leistung (VAC)
0.8 | 5 | 120
0.4 | 9 | 120
0.8 | 5 | 230
0.4 | 9 | 230

Spezifikationen

• Serie: SHP-200 Series
• Rührgeschwindigkeit: 100 bis 1500 rpm (jede Position einzeln geregelt)
• Heizbereich: 100 °C bis 450 °C; Maximaltemperatur 450 °C
• Heizregelung: analoger Heizknopf mit zwei Schnellwahlpositionen (HI und LO)
• Kontrollleuchten: getrennte Anzeigen für Rühren und Heizen
• Oberfläche: massive Keramik, korrosions- und chemikalienbeständig, leicht zu reinigen
• Oberflächendimensionen: 30,5 x 30,5 cm (12” x 12”)
• Max. Rührvolumen pro Position: typisch 0,8 L (5-Positionen) oder 0,4 L (9-Positionen) je nach Konfiguration
• Anzahl Rührpositionen: erhältlich als 5-Positionen- und 9-Positionen-Variante
• Netzanschlussoptionen: verfügbar für 120 VAC und 230 VAC
• Geeignete Anwendungen: gleichzeitiges Erhitzen und mehrere Rührvorgänge in Laborumgebungen