Durchfluss-Controller Turbo™ 2950

LaborHochpräzision

Basierend auf bewährter Technologie wurden die MSP Turbo™ Flüssigkeitsdurchflussregler 2950 entwickelt, um mit den MSP Turbo II™ Verdampfern gepaart zu werden und eine zuverlässige, leistungsstarke Lösung für die Flüssigkeitsdampfabgabe für Halbleiter-Dünnschichtabscheidungsprozesse (einschließlich CVD, PECVD, ALD und MOCVD) bereitzustellen. Die Turbo™ Flüssigkeitsdurchflussregler 2950 enthalten einen maßgeschneiderten hochpräzisen, hochgeschwindigkeits-Durchflusssensor und eine sorgfältig entwickelte Durchflussregelungselektronik, um die erstklassige Leistung zu bieten, die für die fortschrittliche Halbleiterverarbeitung erforderlich ist. - Präzise Durchflussregelung Die 2950 LFCs integrieren Durchflusssensoren und Flüssigkeitsregelungselektronik, um das Piezo-Ventil an den MSP Turbo II™ Verdampfern zu regulieren. Für Verdampfer ohne integriertes Piezo-Ventil sollten Sie die 2950V-Serie Turbo™ LFC für eine effektive Durchflussregelung in Betracht ziehen. - Anwendungen - Halbleiter-Dünnschichtabscheidungsprozesse - Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) - Plasmaunterstützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) - Atomlagenabscheidung (ALD) - Metallorganische chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD) - Anwendungen mit konstanten Durchflussanforderungen - Merkmale und Vorteile - Fester Durchfluss - Außergewöhnliche Genauigkeit und Linearität - Ultraschnelle Reaktionszeit - Überlegene Wiederholbarkeit - Breite Durchflussbereichsoptionen - Verfügbare Turbo™ LFC Modelle - Modellnummer: 2950-002, 2950-01, 2950-05, 2950-10, 2950-20, 2950-30 - TEOS Vollskala* (g/min): 0.2, 1, 5, 10, 20, 30 - TEMAZr Vollskala (g/min): n/a, 0.19, 0.95, 1.9, 3.8, 5.7 - H2O Vollskala (g/min): 0.14, 0.73, 3.6, 7.3, 14, 21 *Der nominale Maximaldurchfluss wird unter Verwendung von TEOS als Referenzflüssigkeit bei 23±2°C bestimmt. Der Durchflussbereich ist eine Funktion der spezifizierten Flüssigkeit. - Marke: TSI (MSP Turbo™) - Modell: 2950-01 (andere Modelle verfügbar: 2950-002, 2950-05, 2950-10, 2950-20, 2950-30) - Anwendung: Halbleiter-Dünnschichtabscheidung (CVD, PECVD, ALD, MOCVD) - Merkmale: Fester Durchfluss, hohe Genauigkeit, schnelle Reaktion, Wiederholbarkeit, breiter Bereich