Infrarotspektrometer IconIR300™

AFMInspektionfür die Nanotechnik

300 mm längerer Probenzugang für Halbleiter-F&E, Fehleranalyse und Identifizierung von Nanokontaminanten Das Dimension IconIR300™ nanoIR-System für große Proben liefert eine schnelle, hochpräzise Charakterisierung im Nanobereich für Halbleiteranwendungen und unterstützt ein breites Spektrum von Materialtypen und Probengrößen bis zu 300 mm Wafern. Durch die Kombination von proprietärer photothermischer IR-Spektroskopie mit fortschrittlichem AFM-Eigenschafts-Mapping ermöglicht das IconIR300 eine automatisierte Waferinspektion und Defektidentifizierung an Proben, die herkömmliche Techniken in Frage stellen. Die Architektur des Systems unterstützt die schnelle chemische Bildgebung und quantitative Analyse und erweitert die AFM-IR-Fähigkeiten auf neue Halbleitersegmente und Materialien. Die integrierte, rezeptbasierte Messautomatisierung und die robuste Datenanalysesoftware rationalisieren die Arbeitsabläufe und gewährleisten reproduzierbare Messungen mit hohem Durchsatz für die Prozessentwicklung, Qualitätskontrolle und Produktionsumgebung. Ganzer Wafer charakterisierung von chemischen und Materialeigenschaften im Nanobereich Kombiniert IR-Spektroskopie und AFM-Eigenschaftskartierung für hochpräzise, zerstörungsfreie Messungen von 200 mm und 300 mm Wafern. Unzweideutig identifizierung von organischen/anorganischen Nano-Verunreinigungen Verbessert die Qualität von Halbleiterwafern und Fotomasken durch photothermische AFM-IR-Daten, die direkt mit FTIR-Bibliotheken korrelieren. Automatisiert rezeptbasierte Messungen Benutzerfreundlicher Zugang zu umfassenden Daten und Unterstützung von KLARF-Dateien. was das Dimension IconIR300 System bietet: Zerstörungsfreie Ganzwafermessung von 200 mm und 300 mm Wafern; Eindeutige Identifizierung von organischen und anorganischen Nano-Verunreinigungen auf Halbleiterwafern