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... Der Paradigmenwechsel von der Batchproduktion zur kontinuierlichen Produktion erfordert zum einen ein Umdenken bei den verwendeten Produktionsprozessen, zum anderen bezüglich der erforderlichen Automatisierungstechnik. Durch umfassende Initiativen ...
... Kundenspezifischer Projektanlagenbau Alle Anlagen erfüllen die höchsten Anforderungen an zu verwendende Materialien und Funktionssicherheit und sind auch für zukünftige Anwendungen ausbaufähig. Modernste Automatisierung und Regelung vereinfachen die ...
... Das FlexAL-System für die Atomlagenabscheidung (ALD) bietet ein breites Spektrum an optimierten, hochwertigen Plasma-ALD- und thermischen ALD-Prozessen mit maximaler Flexibilität bei den Precursoren, Prozessgasen und der Hardwarekonfiguration in einer ...
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... Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) & PECVD-Werkzeuge für das Wachstum von 1D/2D-Nanomaterialien und Heterostrukturen. PlasmaPro 100 Nano (ehemals Nanofab) bietet Hochleistungswachstum von Nanomaterialien mit In-situ-Katalysatoraktivierung und strenger ...
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... Die PlasmaPro 800 bietet eine flexible Lösung für plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) auf großen Waferbatches und 300-mm-Wafern in einem kompakten, offen beladbaren System. Die große Wafer-Platte ermöglicht die Verarbeitung von Chargen ...
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... Das PlasmaPro 100 PECVD-System wurde speziell für die Herstellung hochwertiger Schichten mit hervorragender Gleichmäßigkeit und Kontrolle der Schichteigenschaften wie Brechungsindex, Spannung, elektrische Eigenschaften und nasschemische Ätzrate entwickelt. ...
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... Die PlasmaPro 800 bietet eine flexible Lösung für reaktive Ionenätzprozesse (RIE) auf großen Waferbatches und 300mm-Wafern in einem kompakten, offen beladbaren System. Die große Wafer-Platte ermöglicht die Verarbeitung von Chargen im Produktionsmaßstab ...
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... Die Plattform PlasmaPro 100 Estrelas wurde entwickelt, um totale Flexibilität für Deep Reactive Ion Etching (DRIE)-Anwendungen zu bieten - für eine Vielzahl von Prozessanforderungen in den Märkten für mikroelektromechanische Systeme (MEMS), Advanced Packaging ...
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... Das PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE-System nutzt ein induktiv gekoppeltes Plasma mit hoher Dichte, um schnelle Ätzraten zu erzielen. Die Prozessmodule bieten exzellente Einheitlichkeit, hohen Durchsatz, hohe Präzision und beschädigungsarme Prozesse für Wafergrößen ...
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... Der PlasmaPro 100 ALE bietet eine präzise Prozesssteuerung für das Ätzen von Halbleiterbauelementen der nächsten Generation. Speziell für Prozesse wie das Ätzen von Vertiefungen für GaN-HEMT-Anwendungen und das Ätzen von Schichten im Nanobereich entwickelt, ...
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... Das PlasmaPro 80 ICP ist ein kompaktes System mit geringer Stellfläche, das vielseitige ICP-Ätzlösungen mit bequemer offener Beladung bietet. Es ist einfach zu installieren und zu bedienen, ohne Kompromisse bei der Prozessqualität. Das Design mit offener ...
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... Die PlasmaPro 100 RIE-Module ermöglichen isotropes und anisotropes Trockenätzen für eine breite Palette von Prozessen. Es eignet sich für Forschungs- und Produktionskunden und bietet eine kontrollierte Umgebung, die die Prozesswiederholbarkeit mit Load-Lock- ...
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