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Der Paradigmenwechsel von der Batchproduktion zur kontinuierlichen Produktion erfordert zum einen ein Umdenken bei den verwendeten Produktionsprozessen, zum anderen bezüglich der erforderlichen Automatisierungstechnik. Durch umfassende ...
Kundenspezifischer Projektanlagenbau Alle Anlagen erfüllen die höchsten Anforderungen an zu verwendende Materialien und Funktionssicherheit und sind auch für zukünftige Anwendungen ausbaufähig. Modernste Automatisierung und Regelung ...
Martin Christ Gefriertrocknungsanlagen
Das innovative und sehr flexible FlexPro 50-Produktionssystem für biotechnologische Produkte und Pharmazeutika besteht im Wesentlichen aus drei Komponenten: einem Isolatorsystem von Ziel und präzisen Füll- und Verschließmaschinenmodulen ...
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... Das FlexAL-System für die Atomlagenabscheidung (ALD) bietet ein breites Spektrum an optimierten, hochwertigen Plasma-ALD- und thermischen ALD-Prozessen mit maximaler Flexibilität bei den Precursoren, Prozessgasen und der Hardwarekonfiguration ...
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... Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) & PECVD-Werkzeuge für das Wachstum von 1D/2D-Nanomaterialien und Heterostrukturen. PlasmaPro 100 Nano (ehemals Nanofab) bietet Hochleistungswachstum von Nanomaterialien mit In-situ-Katalysatoraktivierung ...
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... Das PlasmaPro 100 Polaris Einzelwafer-ICP-RIE-Ätzsystem bietet intelligente Lösungen, um die hervorragenden Ätzergebnisse zu erzielen, die Sie benötigen, um Ihren Wettbewerbsvorteil zu erhalten. Mit umfassender Erfahrung im Ätzen von ...
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... Die PlasmaPro 800 bietet eine flexible Lösung für plasmagestützte chemische Gasphasenabscheidung (PECVD) auf großen Waferbatches und 300-mm-Wafern in einem kompakten, offen beladbaren System. Die große Wafer-Platte ermöglicht die Verarbeitung ...
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... Das PlasmaPro 100 PECVD-System wurde speziell für die Herstellung hochwertiger Schichten mit hervorragender Gleichmäßigkeit und Kontrolle der Schichteigenschaften wie Brechungsindex, Spannung, elektrische Eigenschaften und nasschemische ...
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... Die PlasmaPro 800 bietet eine flexible Lösung für reaktive Ionenätzprozesse (RIE) auf großen Waferbatches und 300mm-Wafern in einem kompakten, offen beladbaren System. Die große Wafer-Platte ermöglicht die Verarbeitung von Chargen im ...
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... Die Plattform PlasmaPro 100 Estrelas wurde entwickelt, um totale Flexibilität für Deep Reactive Ion Etching (DRIE)-Anwendungen zu bieten - für eine Vielzahl von Prozessanforderungen in den Märkten für mikroelektromechanische Systeme (MEMS), ...
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... Das PlasmaPro 100 Cobra ICP RIE-System nutzt ein induktiv gekoppeltes Plasma mit hoher Dichte, um schnelle Ätzraten zu erzielen. Die Prozessmodule bieten exzellente Einheitlichkeit, hohen Durchsatz, hohe Präzision und beschädigungsarme ...
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... Der PlasmaPro 100 ALE bietet eine präzise Prozesssteuerung für das Ätzen von Halbleiterbauelementen der nächsten Generation. Speziell für Prozesse wie das Ätzen von Vertiefungen für GaN-HEMT-Anwendungen und das Ätzen von Schichten im ...
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... Das PlasmaPro 80 ICP ist ein kompaktes System mit geringer Stellfläche, das vielseitige ICP-Ätzlösungen mit bequemer offener Beladung bietet. Es ist einfach zu installieren und zu bedienen, ohne Kompromisse bei der Prozessqualität. Das ...
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