Produktionssystem PlasmaPro 100 Nano CVD

Chemische Gasphasenabscheidung (CVD) & PECVD-Werkzeuge für das Wachstum von 1D/2D-Nanomaterialien und Heterostrukturen. PlasmaPro 100 Nano (ehemals Nanofab) bietet Hochleistungswachstum von Nanomaterialien mit In-situ-Katalysatoraktivierung und strenger Prozesskontrolle bei flexiblen Temperaturen von bis zu 1.200 °C. Ausgezeichnete Gleichmäßigkeit bei flexiblen Temperaturen bis zu 1200°C Optionen für einen 700°C-, 800°C- oder 1200°C-Tisch Probengrößen bis zu 200 mm Vakuum-Ladeschleuse - Schneller Probenwechsel Kaltwanddesign mit duschkopfbasierter, gleichmäßiger Precursorzufuhr Optionales Flüssig-/Feststoffzufuhrsystem für das Wachstum von MoS2, MoSe2 und anderen TMDCs Ausgezeichnete Gleichmäßigkeit mit flexiblen Temperaturen bis zu 1200°C Wahlweise ein 700°C-, 800°C- oder 1200°C-Tisch Probengrößen bis zu 200 mm Vakuum-Ladeschleuse - Schneller Probenwechsel Kaltwanddesign mit duschkopfbasierter, gleichmäßiger Precursorzufuhr Optionales Flüssig-/Feststoffzufuhrsystem für das Wachstum von MoS2, MoSe2 und anderen TMDCs Globale Kundenunterstützung Oxford Instruments ist bestrebt, einen umfassenden, flexiblen und zuverlässigen globalen Kundensupport zu bieten. Wir bieten einen hervorragenden Qualitätsservice während der gesamten Lebensdauer Ihres Systems. Die Ferndiagnose-Software ermöglicht eine schnelle und einfache Fehlerdiagnose und -behebung. Supportverträge sind je nach Budget und Situation erhältlich. Globale Ersatzteillager an strategischen Standorten für eine schnelle Reaktion.