Focused-Ion-Bea-Mikroskop NX5000

optischoptischTEM

Das Hitachi Ethos FIB-SEM ist ein FE-SEM der neuesten Generation mit hervorragender Strahlhelligkeit und Stabilität. Ethos liefert hochauflösende Bilder bei niedrigen Spannungen in Kombination mit Ionenoptik für die Präzisionsbearbeitung im Nanobereich. Hauptmerkmale 1. Leistungsstarke FE-SEM-Säule mit Dual Lens Mode Ultrahochauflösende Beobachtung (HR-Modus: semi-in-lens) Hochpräzise Endpunkterkennung in Echtzeit (FF-Modus: Feldfrei (Time-Sharing-Modus)) 2. Materialverarbeitung mit hohem Durchsatz Ultraschnelle Bearbeitung mit hoher Ionenstromdichte (Max. Strahlstrom: 100 nA) Benutzerprogrammierbares Skript für automatische Verarbeitung und Beobachtung 3. Mikro-Probenahme-System Vollständig integrierte Probenausrichtungssteuerung für Anti-Curtaining-Effekt (ACE-Technologie) TEM-Probenpräparation für gleichmäßige Lamellen in jeder Orientierung 4. Triple-Beam-fähig, liefert Ergebnisse von höchster Qualität Edelgas-Ionenstrahl-Materialbearbeitung mit niedriger Beschleunigung Innovative Funktionen reduzieren ga-ionenbedingte und andere Fräsartefakte 5. Große Multi-Port-Kammer und Tisch für verschiedene Anwendungen System für große Probengrößen mit außergewöhnlicher Tischstabilität Verbesserte Langstreckennachführung über den gesamten Bereich (155 x 155 mm) Verfeinerte Elektronenoptik und Multi-Signal-Detektion Die Ethos SEM-Säule besteht aus einem Verbundobjektivsystem mit magnetischem und elektrostatischem Feld, das in zwei Linsenmodi konfiguriert ist.