Automatisches Oberflächenschutzsystem EM ACE600

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Übersicht
Bereiten Sie feinkörnige Dünnfilme für die Elektronenmikroskopie mit dem Sputter Coater EM ACE600 vor. Präzise, automatisierte Kohlenstoff‑ und Metallbeschichtungsprozesse liefern reproduzierbare Ergebnisse und erhöhen den Probendurchsatz. Nur für Forschungszwecke.

Hauptfunktionen

• Hochvakuum‑Beschichter konfigurierbar für mehrere Quellen: Sputter, Kohlenstofffaden, Kohlenstoffstab und e‑beam.
• Dual‑Source Metallprozesskammer, die bis zu zwei verschiedene Quellen in einem Lauf ohne Vakuumunterbrechung erlaubt.
• Automatisierte, rezeptbasierte Beschichtungsprozesse und Front‑Door‑Beladung für sichere, bequeme Handhabung.
• Unterstützung für Cryo‑Workflows: Cryo‑Transfer‑Schnittstelle, Cryo‑Stage und Basis‑Fracture‑Device für Beschichtungen bei kryogenen Bedingungen und Cryo‑Transfer zum SEM.
• Rotary Shadowing (LARS) Option mit e‑beam‑Quelle und motorisiertem LARS‑Stage für Niedrigwinkel‑Schattenbeschichtung nanoskaliger Strukturen.
• Workflow‑basierte Touchscreen‑Benutzeroberfläche für einfache Ein‑Knopf‑Bedienung routinemäßiger Prozesse.

Sputter‑Beschichtung
Erzeugen Sie reproduzierbare, feinkörnige Sputter‑Beschichtungen. Das System erreicht ein hervorragendes Basisvakuum (< 2 x 10-6 mbar Standard) mit optionalem Meissner‑Trap zur Erreichung des 10-7 mbar‑Regimes. Verstellbarer Probenabstand und Beschichtungswinkel sowie eine rotierende Stage ermöglichen gleichmäßige Beschichtungen und Prozessoptimierung für verschiedene Morphologien und Ziele. Ausgelegt für SEM‑Analysen bei hoher Vergrößerung (bis ~200kX und darüber hinaus).

Kohlenstoff‑Beschichtung
Stellen Sie ultradünne, homogene Kohlenstofffilme mittels Kohlenstofffaden‑Verdampfung, Kohlenstoffstab‑Verdampfung oder e‑beam‑Verdampfung her. Leica adaptive pulsing für Kohlenstofffaden liefert präzise amorphe Filme mit subnanometrischer Kontrolle bei minimiertem thermischen Einfluss. Geeignet für TEM‑Trägerschichten, diffuse Schutzschichten und großflächige homogene Kohlenstoffschichten. E‑beam‑Verdampfung verfügbar für Anwendungen mit geringer Strahlungsdivergenz, z. B. Rotary Shadowing.

Anpassbarkeit & Konfiguration

• Optimiertes Zwei‑Quellen‑Konzept mit angewinkelten Anschlüssen und rotierender Stage für gleichmäßige Dünnfilmverteilung über die gesamte 100 mm Stage.
• Wahl zwischen Kohlenstofffaden, Kohlenstoffstab, e‑beam und Sputter‑Köpfen; optional Glow‑Discharge.
• Vor Ort nachrüstbar mit großer Auswahl an Probenhaltern und Stages (motorisierte 3‑Achsen‑Stage, rotierende/manuelle Stages, dedizierte Kühlstage).
• Schnellwechsel‑Stage‑Schalen für vielseitige Laborabläufe.

Betriebliche Vorteile

• Front‑Door‑Beladung für sichere Handhabung empfindlicher Proben.
• Leichte, gut zu handhabende Quellen für den täglichen Betrieb.
• Automatisierte Rezepte und rezeptbasierte Verarbeitung für Reproduzierbarkeit und höheren Durchsatz.

Anwendungen

• Hochauflösende SEM‑Aufnahmen von flachen oder strukturierten nichtleitenden Proben.
• Kontrastverbesserung nanometerskaliger Strukturen (Proteine, DNA) durch Rotary Shadowing und Metallauftrag.
• Herstellung von TEM‑Trägerfilmen (ultradünne Kohlenstoffträger 1–5 nm, ausgelagert/gebacken zur Reduktion von Kontamination).
• Cryo‑SEM Probenvorbereitung und Cryo‑Transfer Workflows.

Technische Daten

• Modell: EM ACE600
• Typ: Hochvakuum Kohlenstoff-, e‑beam‑ und Sputter‑Beschichter
• Basisvakuum: < 2 x 10-6 mbar (Standard)
• Optionale Vakuumverbesserung: Meissner‑Trap bis in den 10-7 mbar Bereich
• Unterstützte Quellen: Sputter, Kohlenstofffaden‑Verdampfung, Kohlenstoffstab‑Verdampfung, e‑beam‑Verdampfung
• Dual‑Source konfigurierbare Metallprozesskammer (bis zu zwei verschiedene Quellen in einem Prozess)
• Stage‑Durchmesser/Abdeckung: optimiert für volle 100 mm Stage‑Uniformität
• Verstellbarer Probenabstand und Beschichtungswinkel; rotierende Stage für homogene Ablagerung
• Kohlenstoff‑Film‑Dickenkontrolle: präzise Abscheidung (typische ultradünne Filme 1–5 nm)
• Rotary Shadowing (LARS) Fähigkeit für Niedrigwinkel‑Metallauftrag
• Cryo‑Kompatibilität: Cryo‑Transfer‑Schnittstelle, Cryo‑Stage, Basis‑Fracture‑Device
• Beladung: Front‑Door für sichere Probenhandhabung
• Benutzeroberfläche: workflow‑basierter Touchscreen, automatisierte Rezeptverarbeitung
• Nachrüstbarkeit: Vor Ort aufrüstbare Optionen (Quellen, Stages, Glow‑Discharge)
• Verwendungszweck: Nur für Forschungszwecke