FIB-SEM-Mikroskop NX5000

Laborfür Forschungszweckebodenstehend

Das Hitachi Ethos FIB-SEM vereint ein FE-SEM der neuesten Generation mit hervorragender Strahlhelligkeit und -stabilität. Ethos liefert hochauflösende Bilder bei niedrigen Spannungen in Kombination mit Ionenoptik für die Präzisionsbearbeitung im Nanobereich. Merkmale Wichtigste Merkmale 1. Hochleistungs-FE-SEM-Säule mit Dual-Linsen-Modus Ultrahochauflösende Beobachtung (HR-Modus: Semi-in-Lens) Hochpräzise Endpunktdetektion in Echtzeit (FF-Modus: Field Free (Time-Sharing-Modus)) 2. Materialbearbeitung mit hohem Durchsatz Ultraschnelle Bearbeitung mit hoher Ionenstromdichte (max. Strahlstrom: 100 nA) Vom Anwender programmierbares Skript für automatische Bearbeitung und Beobachtung 3. Mikrosampling-System Vollständig integrierte Probenausrichtungssteuerung zur Vermeidung des Anti-Curtaining-Effekts (ACE-Technologie) TEM-Probenvorbereitung für gleichmäßige Lamellen in beliebiger Ausrichtung 4. Dreistrahl-fähig für Ergebnisse in höchster Qualität Materialbearbeitung mit Edelgas-Ionenstrahl bei geringer Beschleunigung Innovative Funktionen reduzieren Ga-Ionen-bedingte und andere Fräsartefakte 5. Große Mehrfachanschluss-Kammer und -Tisch für vielfältige Anwendungen System für große Proben mit außergewöhnlicher Tischstabilität Verbessertes Langstrecken-Tracking über den gesamten Bereich (155 × 155 mm) Verfeinerte Elektronenoptik und Multisignal-Detektion Die Ethos-SEM-Säule besteht aus einem kombinierten Objektivsystem aus magnetischen und elektrostatischen Feldern, das in zwei Linsenmodi konfiguriert ist. Der Hochauflösungsmodus (HR) ermöglicht die Probenbeobachtung mit höchster Auflösung, indem die Probe in das Magnetfeld des Linsensystems eingetaucht wird. Der feldfreie Modus (FF) bietet eine FIB-Bearbeitung in Echtzeit für hochpräzises Endpunktfräsen.