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FIB-SEM-Mikroskop NX2000
SEMFIBInspektion

FIB-SEM-Mikroskop -  NX2000 - Hitachi High-Tech Europe GmbH - SEM / FIB / Inspektion
FIB-SEM-Mikroskop -  NX2000 - Hitachi High-Tech Europe GmbH - SEM / FIB / Inspektion
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Eigenschaften

Typ
SEM, FIB, FIB-SEM
Anwendungsbereich
Labor, für Forschungszwecke, Inspektion
Beobachtungstechnik
SIM
Konfigurierung
bodenstehend
Elektronenquelle
mit kalter Feldemission
Detektortyp
Rückstreuelektronen, Sekundärelektronen
Räumliche Auflösung

2,8 nm, 3,5 nm, 4 nm, 60 nm

Beschreibung

NX2000 ist ein für Halbleiteranwendungen optimiertes FIB-SEM (Defektanalyse mit KLARF-Koordinatenimport, TEM-Lamellenextraktion, Bauelementeentwicklung). Mit 205 x 205 mm X,Y-Verfahrweg erlaubt der Probentisch sogar die vollflächige Bearbeitung von 200 mm-Wafern ohne Probendrehung. Die vertikal montierte Ga-FIB erlaubt bis zu 100nA Ionenstrom bei 30 kV. Die FE-SEM-Säule ist mit einem Kaltfeldemitter ausgestattet.

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Messen

Sie können diesen Hersteller auf den folgenden Messen antreffen

CONTROL 2025
CONTROL 2025

6-09 Mai 2025 Stuttgart (Deutschland)

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    Analytica 2026
    Analytica 2026

    24-27 März 2026 München (Deutschland)

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    * Die Preise verstehen sich ohne MwSt., Versandkosten und Zollgebühren. Eventuelle Zusatzkosten für Installation oder Inbetriebnahme sind nicht enthalten. Es handelt sich um unverbindliche Preisangaben, die je nach Land, Kurs der Rohstoffe und Wechselkurs schwanken können.